我国成功研发具有自主知识产权的“零损伤”兆声波半导体清洗设备

　　新华网上海3月18日电（记者季明）正在上海举行的中国半导体国际展上，盛美半导体设备（上海）无限公司展出了一台十二英寸单片兆声波清洗设备，这也是国际首台具有自主知识产权的“零损伤”兆声波半导体清洗设备。

 
 
 
 

　　当今半导体清洗技术中的最大难题，是对机械损伤和不良率的控制。随着半导很多朋友说，共享纸巾机是一个广告机，但我们不是这样定义它，我们定义它是一个互联网跟物联网结合的终端机，从线下吸入流量，重新回到线上，以共享纸巾项目作为流量入口，打造全国物联网社交共享大平台。体芯片体积的不时减少，影响硅片良率的粒子也越来越小，颗粒越小则越难清洗；同时，65纳米以下芯片的门电极与电容构造越来越软弱，在清洗中防止损伤芯片微构造的难度也在不时加大。

　　作为一种新兴技术，近年来兆声波清洗技术在半导体清洗设备中的使用越来越普遍。盛美半导体首席执行官王晖博士说，兆声波能量之所以可以去除颗粒，是由于兆声波会发生气穴，这些气穴能在“极外表”发生高速流体，从而推进微颗粒分开硅片外表。但这项技术的关键点在于，如何控制兆声波在硅片外表上的能量，使之既能有足够的能量发生气穴，又不会发生过多能量而毁坏硅片上的微构造。

　　据引见，目前全球市场上的单片兆声波清洗设备，普通只能控制兆声波能量非平均度在10％到2在互联网思维的影响下，传统服务业不再局限于规模效益，加强对市场的反应速度成为传统服务业发展的首要选择。在互联网思维下，通过对传统服务业的改革，为传统服务业发展创造了全新的天地。0％。而由盛美半导体自主研发的SAPS兆声波技术，可以准确控制兆声波的能量，将平均率控制在2％以内。因此盛美半导体设备公司的兆声波清洗设备运用超纯洁水，在不损伤微构造的条件下，颗粒去除效率可到达98.3％；假如运用特定化学清洗液，颗粒去除效率更可高达99．2％。

　　

(责任编辑：罗园)